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摘 要:針對鍍液中陰極電流密度、鍍液溫度以及極板間距,對Ni-SiC納米復合鍍層顯微硬度的影響進行了研究.采用正交實驗法對各工藝參數(shù)進行了優(yōu)選.并且利用掃描電鏡（SEM）對復合鍍層的表面形貌及截面形貌進行了觀察和分析.結果表明,Ni-SiC納米復合鍍層較純鎳鍍層表面平整光滑,顯微組織均勻、致密,并且其顯微硬度也有明顯提高.[著者文摘]
摘 要:針對鍍液中陰極電流密度、鍍液溫度以及極板間距,對Ni-SiC納米復合鍍層顯微硬度的影響進行了研究.采用正交實驗法對各工藝參數(shù)進行了優(yōu)選.并且利用掃描電鏡（SEM）對復合鍍層的表面形貌及截面形貌進行了觀察和分析.結果表明,Ni-SiC納米復合鍍層較純鎳鍍層表面平整光滑,顯微組織均勻、致密,并且其顯微硬度也有明顯提高.[著者文摘]
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