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摘 要:針對X射線自支撐透射光柵在多能點單色成像光柵譜儀中的應(yīng)用，采用電子束和光學(xué)匹配曝光、微電鍍和高密度等離子體刻蝕技術(shù)，成功制備了周期為500nm、金吸收體厚度為350nm、占空比接近1：1，滿足三個能點成像需求的2000 lp／mmX射線自支撐透射光柵。首先利用電子束光刻和微電鍍技術(shù)制備金光柵圖形，然后采用紫外光刻和微電鍍技術(shù)制作自支撐結(jié)構(gòu)，最后通過腐蝕體硅和感應(yīng)耦合等離子體刻蝕聚酰亞胺完成X射線自支撐透射光柵的制作。在電子束光刻中，采用幾何校正和高反差電子束抗蝕劑實現(xiàn)了對納米尺度光柵圖形的精確控制。實驗結(jié)果表明，同一個器件分布的三塊光柵占空比合理，柵線平滑，可以滿足單能點單色成像譜儀的要求。[著者文摘]
