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摘 要:針對(duì)我國(guó)對(duì)高線密度X射線鏤空透射光柵在空間環(huán)境探測(cè)和激光等離子體診斷方面的需求，將電子束光刻和X射線光刻技術(shù)相結(jié)合，制備出33331／mmX射線全鏤空透射光柵，柵線寬度接近150nm，周期300nm，柵線厚度為500nm，有效光柵面積達(dá)到609，6。首先利用電子束光刻和微電鍍技術(shù)在鏤空聚酰亞胺薄膜底襯上制備X射線母光柵掩模，然后利用X射線光刻和微電鍍技術(shù)實(shí)現(xiàn)了光柵圖形的復(fù)制品，之后采用紫外光刻和微電鍍技術(shù)制作加強(qiáng)筋結(jié)構(gòu)，最后通過腐蝕體硅和等離子體刻蝕聚酰亞胺完成鏤空透射光柵的制作。在國(guó)家同步輻射實(shí)驗(yàn)室光譜輻射和計(jì)量實(shí)驗(yàn)站上對(duì)此光柵在5～23nm波段進(jìn)行了衍射效率標(biāo)定。標(biāo)定結(jié)果表明所制備的光柵柵線平滑，占空比合理，側(cè)壁陡直，不同光柵之間一致性好，完全可以滿足應(yīng)用需求。[著者文摘]
