中低溫化學(xué)鍍鎳工藝的新進(jìn)展：結(jié)論

【簡介】

結(jié)論

    (1)縱觀低溫化學(xué)鍍鎳的發(fā)展，近年來新的工藝和方法雖然有不少報(bào)道，但涉及機(jī)理的研究以及與其他學(xué)科的交叉領(lǐng)域的研究很少，尤其與當(dāng)前的納米科學(xué)相結(jié)合的研究幾乎沒有。

    (2)對(duì)二元鍍層的研究較多，但復(fù)合鍍層的研究較少；針對(duì)某單個(gè)問題或某幾個(gè)問題的研究較多，而對(duì)整個(gè)工藝的系統(tǒng)研究較少，尤其涉及中低溫化學(xué)鍍鎳周期實(shí)驗(yàn)的研究很少。

    (3)鍍速相對(duì)較低仍是當(dāng)前中低溫化學(xué)鍍鎳工藝的瓶頸，要達(dá)到高溫化學(xué)鍍鎳的沉積速率，獲取性能更加優(yōu)良的鍍層，仍然有待于科研工作者的進(jìn)一步研究改進(jìn)。

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[編輯：吳杰]