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【簡介】
在制藥設(shè)備上使用了化學(xué)鍍Ni—P工藝。給出了2種工藝流程并確定了鍍液配方。研究了溫度、前處理對施鍍的影響。結(jié)果表明，最佳施鍍溫度為[(85～90)±2]℃，鍍件沖擊鍍鎳及鍍液磁化均可取得良好的效果。該方法得到的鍍層結(jié)構(gòu)致密、孔隙率低、耐蝕性強、結(jié)合力好、硬度高。
【簡介】
在制藥設(shè)備上使用了化學(xué)鍍Ni—P工藝。給出了2種工藝流程并確定了鍍液配方。研究了溫度、前處理對施鍍的影響。結(jié)果表明，最佳施鍍溫度為[(85～90)±2]℃，鍍件沖擊鍍鎳及鍍液磁化均可取得良好的效果。該方法得到的鍍層結(jié)構(gòu)致密、孔隙率低、耐蝕性強、結(jié)合力好、硬度高。
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