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電鍍法制備多孔光催化材料及其性能研究.pdf

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2008-07-05??瀏覽次數(shù):324 ??關注:加關注
核心提示:電鍍法制備多孔光催化材料及其性能研究.pdf

【簡介】

以多孔泡沫鎳為載體。采用電鍍法制備多孔光催化材料,并研究其對水中羅丹明B的降解性能。結果表明。多孔光催化材料對水中羅丹明B的光催化降廨反應嚴格符合零級動力學規(guī)律 最佳制備工藝條件為;電鍍液中硫酸鎳濃度180g/L;鍍液中P25型納米TiO2粉體投加量2g/L;電鍍溫度45℃ ;攪拌速度4檔。Bi2O3和ZnO復合改性使產(chǎn)品的光催化性能提高。復合粉體中的Bi2O3和ZnO起電子-空穴分離的橋梁作用。納米Bi2O3復合量達7%或ZnO復合囂為2%時。產(chǎn)品的光催化性能最優(yōu)。Ag修飾使經(jīng)Bi2O3或ZnO復合的光催化材料的光催化性能有所提高。經(jīng)Bi2O3復合的光催化材料的最佳Ag修飾量為1%。經(jīng)ZnO復合的光催化材料的最佳Ag修飾世為4%。

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