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【簡介】
應用SEM、EDX、XPS等分析技術(shù)研究了耐指紋板SECCN2表面黑變膜的形貌、組成和結(jié)構(gòu)，并對黑變成因及機理進行了討論，結(jié)果表明：黑變膜厚度約為75nm，它是由ZnO1-x,ZnO,Zn(OH)2,Cr2O3,CrOOH,CrO3和SiO3等物質(zhì)組成；膜表層的鋅是以ZnO形態(tài)存在，而膜內(nèi)層的鋅則以非化學計量化合物ZnO1-x形態(tài)存在，黑變是有有機膜下鋅的陽極活化溶解和有機膜產(chǎn)生的光的干涉作用所致。
