??
【簡(jiǎn)介】
根據(jù)慣性約束聚變分解實(shí)驗(yàn)的要求，通過(guò)激光干涉法在光刻膠表面制備正弦起伏圖形，結(jié)合電鍍圖形轉(zhuǎn)移工藝，獲得了波長(zhǎng)20－100μm、振幅0．2－3．5μm的一系列Ni基圖形轉(zhuǎn)移模板，并進(jìn)一步將正弦起伏圖形轉(zhuǎn)移到聚苯乙烯薄膜表面，制備出聚苯乙烯二維調(diào)制箔靶。研究了圖形的精確轉(zhuǎn)移工藝，特別是深振幅樣品的脫模工藝，對(duì)工藝參數(shù)的優(yōu)化進(jìn)行了討論。采用臺(tái)階儀和原子力顯微鏡監(jiān)控圖形轉(zhuǎn)移過(guò)程，比較了光刻膠表面圖形和一次、二次電鍍轉(zhuǎn)移圖形以及轉(zhuǎn)移到聚苯乙烯薄膜上圖形的形貌，測(cè)定了圖形轉(zhuǎn)移過(guò)程中的深度變化。
