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l 引言
稀土低鉻鍍鉻相對(duì)高鉻鍍鉻，工藝范圍較寬，操作簡單，特別是使用CF一201兼有除雜功能的稀土鍍鉻添加劑，減少了異金屬雜質(zhì)的積聚和危害，鍍鉻故障大大降低。但是各電鍍廠在鍍鉻中，難免產(chǎn)生不正常的現(xiàn)象，沒有及時(shí)處理和排除故障，影響生產(chǎn)。筆者經(jīng)十多年的經(jīng)歷，集數(shù)百家鍍鉻廠家工藝技術(shù)人員的經(jīng)驗(yàn)，總結(jié)歸納了一套較完整的方法，可供相關(guān)電鍍的廠家能“對(duì)癥下藥”，及時(shí)排除故障。
2 正確掌握鍍鉻工藝配方及操作方法
鉻酸140～180 g／L(銅件取下限，鐵件取上限)硫酸0．45～1 g／L(裝飾鉻取下限，硬鉻取上限)稀土添加劑1．5～2．5 g／L(簡單零件取下限，復(fù)雜零件和硬鉻取上限)三價(jià)鉻小于3 g／L，以低為好鐵離子小于5 g／L，銅離子小于4 g／L溫度25～40。C(鍍硬鉻須增加10～15。C)電流密度10～20 A／dm (鍍硬鉻須增加15～20 A／dm )陽極：陰極面積為4～5：1陽極材料鉛錫(10％ ～13％)合金鍍鉻液在補(bǔ)加鉻酐時(shí)必須同時(shí)補(bǔ)加稀土添加劑，補(bǔ)加量為補(bǔ)加鉻酸量的1／100，如不同時(shí)補(bǔ)加，鍍液易失去平衡。
3 故障及對(duì)策
3．1 深鍍能力差
(1)鉻酸濃度偏高，最佳為150～180 g／L；
(2)硫酸偏高，最佳為0．45 g／L；
(3)溫度偏低，最佳為36。C左右；
(4)電流密度偏低，最佳為12～15 A／dm ；
(5)陽極面積偏小，陽極：陰極最佳為4～5：1；
(6)稀土添加劑偏少，最佳為2．3 g／L左右；
(7)鍍液中異金屬雜質(zhì)偏高，最好使用CF一201兼有除雜功能的稀土添加劑，逐步降低。
3．2 高電流區(qū)燒焦而低電流區(qū)露黃。或掛具接觸點(diǎn)有黃印子
(1)硫酸偏高，加碳酸鋇0．5～1 g／L；
(2)溫度偏低而電流密度偏高，適當(dāng)調(diào)整，使之協(xié)調(diào)；
(3)陽極導(dǎo)電不良，清洗陽極，陰極銅桿打磨；
(4)掛具接觸不良，檢查掛具；
(5)三價(jià)鉻偏高，電解處理，陽極面積：陰極面積為25～30：1電解。
3．3 鍍層出現(xiàn)藍(lán)色膜或黃色膜
(1)硫酸偏低，略補(bǔ)加0．05～0．1 ml／L；
(2)溫度偏低，略提高3～5。C；
(3)電流密度偏低，略提高1～3 A／dm ；
(4)稀土添加劑偏少，略增加0．1-0．3 g／L；
(5)三價(jià)鉻偏高，電解處理；
(6)陽極導(dǎo)電差，刷洗陽極板；
(7)銅、鐵、鎳雜質(zhì)超出標(biāo)準(zhǔn)，最好使用CF一201兼有除雜功能的稀土添加劑。
3．4 鍍層出現(xiàn)彩色膜
(1)溫度偏高，略降低3～5。C；
(2)硫酸偏低，略增加0．05～0．1 ml／L；
(3)三價(jià)鉻偏高，電解處理；
(4)有害金屬雜質(zhì)偏高，最好使用CF一201稀土添加劑逐步處理；
(5)工件離開陰極后，在鉻槽中停留2～3 S后取出。
3．5 高鉻鍍液改低鉻鍍液后效果不明顯
(1)濃度偏高，最好把高鉻液取出20％ ～30％ ，然后加水沖稀到原槽位，波美度為15～17度。
(2)硫酸根偏高，調(diào)整到工藝范圍；
(3)陽極板每邊加掛3～4塊；
(4)溫度和電流密度按低鉻鍍鉻標(biāo)準(zhǔn)操作。
