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【簡介】
針對高孔率泡沫金屬的電阻特性，通過電流密度隨時間的變化轉(zhuǎn)換為鍍區(qū)內(nèi)的位置分布，建立了穩(wěn)恒狀態(tài)下，帶狀高孔率泡沫金屬與陽極平行電沉積的理論模型，進而推導出表觀電流密度分布的表達式，并對電化學步驟控制的泡沫金屬電沉積進行了設(shè)備優(yōu)化設(shè)計，使得泡沫金屬電沉積的電流密度控制在最佳范圍，保證泡沫金屬的質(zhì)量。這一工作，為電沉積法制備高孔率泡沫金屬的設(shè)備制造和在線控制提供了理論依據(jù)，具有實際應(yīng)用價值。
