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【簡(jiǎn)介】
研究了在氫化鋯(H／Zr原子比為1．801)表面通過(guò)電鍍鉻制備氫滲透阻擋層的工藝。結(jié)果顯示，基體表面經(jīng)過(guò)適當(dāng)氧化處理后電鍍所得鉻鍍層與基體的結(jié)合強(qiáng)度和阻氫性能都有一定的提高；隨著電流密度的升高，氫滲透阻擋層孔隙、顯微裂紋明顯增多；反之，氫滲透阻擋層連續(xù)致密。
【簡(jiǎn)介】
研究了在氫化鋯(H／Zr原子比為1．801)表面通過(guò)電鍍鉻制備氫滲透阻擋層的工藝。結(jié)果顯示，基體表面經(jīng)過(guò)適當(dāng)氧化處理后電鍍所得鉻鍍層與基體的結(jié)合強(qiáng)度和阻氫性能都有一定的提高；隨著電流密度的升高，氫滲透阻擋層孔隙、顯微裂紋明顯增多；反之，氫滲透阻擋層連續(xù)致密。
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