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【簡介】
以二甲基胺硼烷(DMAB)為還原劑,在鋁合金上獲得了化學鍍鎳低磷低硼鍍層,研究了硫酸鎳、次磷酸鈉、DMAB、絡合劑、pH值和穩(wěn)定劑對鍍層的沉積速度、顯微硬度和微觀形貌的影響。通過正交實驗和單因素實驗,確定了最佳工藝配方為:24 g/L硫酸鎳,適量DMAB,12 g/L次磷酸鈉,3 mg/L硫脲,30 mL/L絡合劑。所獲得的化學鍍鎳鍍層中P、B、Ni的質(zhì)量分數(shù)分別為:1.81%、0.26%和97.93%。該鍍層與基體的結合力良好,硬度在550～710HV范圍內(nèi),在鋁質(zhì)活塞上應用獲得了滿意的效果。
