中低溫化學鍍鎳工藝的新進展：脈沖化學鍍法

【簡介】

脈沖化學鍍法

    將脈沖技術(shù)引入到化學鍍鎳中構(gòu)成脈沖化學鍍鎳，這是20世紀80年代中期發(fā)展起來的一種化學鍍鎳技術(shù)。有研究表明，85 ℃施鍍時，脈沖化學鍍的鍍速是常規(guī)化學鍍鍍速的2～3倍，鍍層的性能和質(zhì)量較好，而且鍍液的pH穩(wěn)定，鍍液各成分的有效利用率顯著提高：因此脈沖化學鍍鎳為高精度化學鍍鎳創(chuàng)造了條件。

    劉燕萍等人^[18]利用脈沖化學鍍進行低溫化研究。其研究結(jié)果表明，由于電脈沖的催化作用，使得酸性化學鍍鎳的施鍍溫度降至50 ℃時，仍有ll μm／h的沉積速率，鍍層為非晶態(tài)(磷質(zhì)量分數(shù)為l0．88％)，鍍層性能與80 ℃施鍍的普通化學鍍層相當。不過其更深入的研究未見報道。