硫酸-甲醇體系鎢電解拋光的可行性研究：結(jié)論

【簡(jiǎn)介】

結(jié)論

實(shí)驗(yàn)證明，硫酸一甲醇體系適用于鎢的電解拋光。初步確定了此體系中鎢電拋光的工藝參數(shù)：硫酸與甲醇的體積比1：7，電壓15～24 V，溫度l5～25 ℃，攪拌速率10 m／s。電解拋光后的鎢片具有較高的表面質(zhì)量，平整光滑，無(wú)劃痕，呈鏡面光亮，表面反射率高達(dá)98％以上，粗糙度R。由電解拋光前的ll9 nm下降到l2 nm。本文所研究的電解拋光工藝為稀有難熔金屬的表面處理提供了新的處理方法。

參考文獻(xiàn)：

[l]  劉德斌，邱龍會(huì)，付志兵．超細(xì)鎢絲的電解腐蝕制備及其性能表征[J]．強(qiáng)激光與粒子束，2006，18(3)：521．524．

[2]  陳泰亨．鎢在堿性溶液中的陽(yáng)極行為[J]．上海有色金屬，1994，15(4)：203-206．

[3]  LATAWIEC A A，LOCKWOOD G H．Method of electropolishing tungsten wire：US，3287238[P1．1966-1 l-22．

[4]  劉松琴，謝為民，鄭秋容，等．鎢在NaOH-KCl03—№C03系電解液中的陽(yáng)極行為[J]．材料保護(hù)，1998，31(11)：27—29．

[5]  CORTES F R．Etectropolishing refractory metals：US，3033769[P]．1962-05-O8．

[6]  謝格列夫ⅡB．金屬的電拋光和化學(xué)拋光[M]．鞏德全，譯．北京：科學(xué)出版社．1961：140．142．

[7]  WU A T，MAMMOSSER J，PHILIPS L，ct al．Smooth Nb surfaces fabficated by buffered electropolishin8[J]．Applied Surface Science，2007，253(6)：3041-3052．

[8]  PIOTROWSKl 0，MADORE C，LANDOLT D．Electropolishing of    tantalum in sulfuric acid—methanol electrolyres[J]．Electrochimica Acta,    1999，44(19)：3389-3399．

[9]  FUSHIMI K STRATMANN M，HASSEL A W．Electro"polishing ofNiTi    shape memory alloys in methanolic H2S04[J]．Electrochimica Acta,2006，    52(3)：1290—1295．

[10]  張素銀，杜凱，諶加軍，等．電解拋光技術(shù)研究進(jìn)展[J]電鍍與涂飾，2007，26(2)：48-50．