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Ni/SiO2復(fù)合電鍍層高溫氧化性能的研究.pdf

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核心提示:Ni/SiO2復(fù)合電鍍層高溫氧化性能的研究.pdf

【簡介】

通過對(duì)含有SiO2,ZrO2微粒復(fù)合電沉積的研究,在Cu合金表面分別獲得了含量(原子數(shù)分?jǐn)?shù))為11.3% SiO2,5.31% ZrO2微粒的Ni基復(fù)合鍍層.通過在800 ℃、900 ℃條件下的高溫氧化和熱震循環(huán)試驗(yàn),研究了這種復(fù)合鍍鎳層的高溫氧化性能和界面結(jié)合特性.結(jié)果表明:經(jīng)過40 h的高溫氧化,2種復(fù)合鍍鎳層的抗氧化性能均達(dá)到抗氧化級(jí),而且含SiO2微粒的復(fù)合鍍鎳層的抗氧化性能優(yōu)于含ZrO2微粒的復(fù)合鍍鎳層;經(jīng)過55次冷熱循環(huán),含SiO2微粒的復(fù)合鍍鎳層與銅基體結(jié)合良好.

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