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一種高活性電鍍級氧化銅的生產(chǎn)工藝.pdf

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核心提示:一種高活性電鍍級氧化銅的生產(chǎn)工藝.pdf

【專利號(申請?zhí)?】201010207485.3

【公開(公告)號】CN101844793A

【申請人(專利權(quán))】昆山市千燈三廢凈化有限公司

【申請日期】2010-6-24 0:00:00

【公開(公告)日】2010-9-29 0:00:00

本發(fā)明的主要內(nèi)容是以線路板酸性氯化銅或者硝酸銅或者硫酸銅蝕刻廢液和液體氫氧化鈉或者氫氧化鉀為主要原料,合成的粗品氧化銅經(jīng)微波干燥、粉碎、水洗、超聲波洗滌、微波再次干燥及粉碎工藝,制得含量達99%以上的氧化銅,在電鍍液中能夠快速溶解,即30秒以內(nèi)完全溶解,并且有較低的雜質(zhì)含量,本發(fā)明工藝具有生產(chǎn)成本低,工藝簡單,生產(chǎn)過程中對環(huán)境污染小,生產(chǎn)出的氧化銅活性高等優(yōu)點。

一種高活性電鍍級氧化銅的生產(chǎn)工藝.pdf
 

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