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【專利號(hào)(申請(qǐng)?zhí)?】98808249.7
【公開(kāi)(公告)號(hào)】CN1267342
【申請(qǐng)人(專利權(quán))】阿托特德國(guó)有限公司
【申請(qǐng)日期】1998-8-19 0:00:00
【公開(kāi)(公告)日】2000-9-20 0:00:00
本發(fā)明描述了一種用于調(diào)節(jié)在電解液中的金屬離子的濃度的方法和裝置，該電解液用于用不溶性陽(yáng)極沉積金屬并附加地含有電化學(xué)可逆的氧化還原系化合物。在液體流過(guò)的離子發(fā)生器（１）中，以該體系化合物的氧化形式使金屬溶解，該化合物也因此被還原。為了沉積金屬，溶解的金屬離子在工件上被還原。處于還原形式的氧化還原系化合物在電鍍?cè)O(shè)備（１３）中在不溶性陽(yáng)極上重新被氧化。為了保持電解液中的金屬離子的濃度恒定，至少一部分電鍍設(shè)備中的電解液通過(guò)一個(gè)或更多的有至少一個(gè)不溶性陽(yáng)極（８）和至少一個(gè)陰極（７）的輔助電解池（６）輸送，并在輔助電解池的陽(yáng)極與陰極之間設(shè)定如此大的電流流動(dòng)，以致在陽(yáng)極表面上的電流密度最小為６Ａ/dm2，在陰極表面上的電流密度最大為３Ａ/dm2。為此，輔助電解池的陽(yáng)極的表面積與陰極的表面積的比例調(diào)節(jié)成至少為１∶４。
