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用于電鍍晶片表面的裝置和方法.pdf

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【專利號(hào)(申請(qǐng)?zhí)?】02825978.5

【公開(kāi)(公告)號(hào)】CN1630739

【申請(qǐng)人(專利權(quán))】皇家飛利浦電子股份有限公司

【申請(qǐng)日期】2002-12-12 0:00:00

【公開(kāi)(公告)日】2005-6-22 0:00:00

 本發(fā)明提供了用于電鍍晶片表面的方法,包括將鍍液引入到室中的晶片表面,和使晶片繞穿過(guò)待鍍表面的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn),以及包括移動(dòng)晶片以便引起其旋轉(zhuǎn)軸自身繞第二旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的進(jìn)一步的步驟。

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