??
【專利號(申請?zhí)?】200410018420.9
【公開(公告)號】CN1580334
【申請人(專利權(quán))】上海應用技術(shù)學院
【申請日期】2004-5-18 0:00:00
【公開(公告)日】2005-2-16 0:00:00
本發(fā)明公開了一種電鍍清洗工藝及其裝置，所述工藝包括如下步驟：一、電鍍件從電鍍槽進入清洗槽之前先經(jīng)過回收空槽，用微量霧化水噴射裝置對電鍍件噴射水霧簾進行清洗，控制單位時間內(nèi)所述微量霧化水噴射裝置噴射水量與單位時間內(nèi)所述電鍍槽中電鍍液的蒸發(fā)量大體相同；二、將所述回收空槽中的回收液適時補充到所述電鍍槽中；所述裝置用于實現(xiàn)上述工藝，其特征在于電鍍槽和清洗槽之間置有回收空槽，所述電鍍槽、清洗槽和回收空槽之間通過管線和泵相連接，所述回收空槽在槽口兩側(cè)置有微量霧化水噴射裝置。本發(fā)明適用任何電鍍工藝，是一種節(jié)能、環(huán)保、生產(chǎn)成本低的電鍍清洗工藝。
