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【專利號(申請?zhí)?】94190275.7
【公開(公告)號】CN1109698
【申請人(專利權(quán))】清川鍍金工業(yè)有限公司
【申請日期】1994-5-2 0:00:00
【公開(公告)日】1995-10-4 0:00:00
本發(fā)明提供了具有良好的熔斷特性的主要含有鎳和磷的合金膜電阻及其制造方法。在通過相繼進(jìn)行酸洗、活化和化學(xué)鍍處理使一個電絕緣基底的表面導(dǎo)電后，再通過電鍍處理形成一層主要含有鎳和磷的合金膜。由于采用的是電鍍處理，因此所形成的合金膜在電絕緣基底表面中部處的膜厚小于在電絕緣基底表面的角部或棱部處的膜厚，膜厚小的這部分就相當(dāng)合適地用作過載時的熔斷啟動部分。
