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【專利號(申請?zhí)?】200410028137.4
【公開(公告)號】CN1594667
【申請人(專利權(quán))】林少偉;林典雄
【申請日期】2004-7-14 0:00:00
【公開(公告)日】2005-3-16 0:00:00
本發(fā)明涉及一種局部電鍍工藝及其專用設(shè)備。局部電鍍工藝含有一個直流電源以及與其電連接的陽極和陰極，陰極可與鍍件電連接；制作一個能遮擋鍍件勿鍍區(qū)域的掩模；在鍍件的被鍍表面與陽極之間，設(shè)置一個可充滿鍍液的空腔；設(shè)置一個能為所述空腔提供鍍液的供給裝置；設(shè)置一個能固定鍍件并能提供間接陰極的氣動升降裝置；以及一個能調(diào)節(jié)工作電流、工作電壓、鍍液溫度以及時間設(shè)定的電控箱。本發(fā)明實施局部電鍍，鍍件不用封閉，采用膠澆注掩模用于遮擋鍍件勿鍍區(qū)域表面，節(jié)省大量人力和物力，具有無污染、效率高、成本低、操作簡單等特點，可適應現(xiàn)代機械化、大批量生產(chǎn)。
