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【專(zhuān)利號(hào)(申請(qǐng)?zhí)?】200410039695.0
【公開(kāi)(公告)號(hào)】CN1670262
【申請(qǐng)人(專(zhuān)利權(quán))】中國(guó)科學(xué)院微電子研究所
【申請(qǐng)日期】2004-3-16 0:00:00
【公開(kāi)(公告)日】2005-9-21 0:00:00
一種電鍍起鍍層的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：a)在半導(dǎo)體襯底上制作第一層鈦金屬；b)在第一層鈦金屬上制作一層金屬金；c)在金屬金上制作第二層鈦屬金，完成起鍍層的制作。
