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電極形成方法.pdf

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【專利號(hào)(申請(qǐng)?zhí)?】200510108052.1

【公開(公告)號(hào)】CN1755899

【申請(qǐng)人(專利權(quán))】豐田合成株式會(huì)社

【申請(qǐng)日期】2005-9-29 0:00:00

【公開(公告)日】2006-4-5 0:00:00

本發(fā)明提供一種透光性高、電阻低的透光性電極的制造方法。半導(dǎo)體發(fā)光元件(100)是在藍(lán)寶石襯底上依次層疊了緩沖層(102)、非摻雜 GaN(103)、高載流子濃度n+(104)n型層(105)、發(fā)光層(106) p型層(107)p型接觸層(108)而形成的,具有在至少存在氧的氣氛下利用電子束蒸鍍法或者離子電鍍法形成、且之后進(jìn)行燒制而形成的由 ITO構(gòu)成的透光性電極(110)

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