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【專利號(申請?zhí)?】CN01129149.4
【公開(公告)號】CN1380446
【申請人(專利權)】重慶,阿波羅,機電,技術開發(fā)
【申請日期】2001-12-4 0:00:00
【公開(公告)日】2002-11-20 0:00:00
一種總厚度低于13μm的高光亮高耐蝕高耐磨復合鍍層組合為暗鎳/納米復合鎳/亮鎳/鉻，是用電鍍的方法先后鍍上1.5－2.0μm的暗鎳，5－8μm的納米復合鎳，3－4μm的亮鎳和0.25－0.5μm的鉻獲得。納米復合鎳鍍層中彌散有粒徑為40－80nm的以α－Al2O3為主晶相的復合氧化物3－10％。納米復合鎳鍍層是在常規(guī)瓦特電解液中添加以α－Al2O3為主晶相的復合氧化物漿料50－150g/L電解沉積而成，它所構成的總厚度為13μm的鍍層組合與總厚度為25μm常規(guī)三鎳體系相比，光亮度相當，但耐磨性和耐蝕性大幅度提高，特別適用于在潮濕鹽霧氣氛中且受高速微粒沖擊的物件的裝飾防護。
【主權項】
權利要求書 1、一種總厚度≤13μm高光亮高耐腐蝕高耐磨納米復合電鍍層組合，其特征為：電鍍層組合為：暗鍍/納米復合鎳/光亮鎳/鉻；其中，在電鍍層組合的復合鍍層中彌散有3-10％以α-Al2O3為主晶相的納米復合氧化微粒；所述納米復合氧化微粒中含有堿土金屬，或/和過鍍金屬1～10％。
