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用GX-3B型X射線衍射儀分析鍍層的結(jié)構(gòu)。不同含硫量和含鎳量的鎳鈰硫合金的X射線衍射圖見(jiàn)圖1[1]。
由圖l可見(jiàn)：
圖1 Ni-Ce-S合金鍍層的X射線衍射圖
1-S l5％Ce l0％Ni 75％；2-S 22％Ce l0％Ni 68％；
3-S 30％Ce l0％Ni 60％；4-S 39％Ce l0％Ni 51％
①曲線1硫含量15％，在20=25。附近，呈現(xiàn)尖峰，為晶態(tài)結(jié)構(gòu)；
②曲線2、3，硫含量各為22％和30％，曲線呈現(xiàn)緩和峰，其間為混晶態(tài)；
③曲線4：硫含量大于30％時(shí)，呈現(xiàn)平展的饅頭峰，鍍層為非晶態(tài)結(jié)構(gòu)。
用ASM-SX型掃描電子顯微鏡觀察鍍層表面形貌，可觀察到．晶態(tài)鍍層的裂紋多于非晶態(tài)鍍層的裂紋，且較粗；鈰的加入，有利于細(xì)化晶粒，減少裂紋[1]。
參考文獻(xiàn)
1郭忠誠(chéng)，劉鴻康，王志英，王敏．電沉積Ni-Ce-S非晶態(tài)合金．電鍍與涂飾，l994，13(4)：18～20
