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在化學(xué)鍍中，微粒的添加量比較固定，一般都在1～5g/L之 間。在空氣攪拌的情況下，在這個(gè)添加范圍都能獲得顯著的效果。 這是比電鍍工藝要優(yōu)秀得多的性能，比如按3g/L的量添加量加入碳化硅，可以在化學(xué)鍍中獲得含有碳化硅7.72%的復(fù)合鍍層。如 果要在電鍍中獲得同樣含量的鍍層，例如采用標(biāo)準(zhǔn)鍍鎳(瓦特型鍍 液)作基礎(chǔ)液，取pH值為4、溫度為50°C，陰極電流密度為5A/dm2， 需要添加的碳化硅的量是120g/L，是化學(xué)復(fù)合鍍添加量的40倍。
另外，電鍍復(fù)合鍍層的微粒在最外層的分布較為密集，在鍍層的內(nèi)部含量會下降。而化學(xué)復(fù)合鍍層的微粒分布在整個(gè)鍍層的不同 厚度層面都是比較均勻的。對化學(xué)復(fù)合鍍層進(jìn)行耐磨試驗(yàn)表明，經(jīng)過8h研磨以后，在顯微鏡下觀察，研磨后的表面與當(dāng)初沒有研磨的表面組織狀態(tài)是一樣的。
由此可知，在化學(xué)復(fù)合鍍中，可以用很少的微粒獲得較高含量的微粒共沉積層。這對于那些微粒成本較高復(fù)合鍍來說，當(dāng)然是好 消息。
對不同復(fù)合鍍層經(jīng)200°C 1h熱處理后，摩擦8h的試驗(yàn)結(jié)果見 表3-3，試驗(yàn)結(jié)果表明，采用碳化硅復(fù)合鍍層的耐磨性能是最好的。
