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一種動磁場真空鍍膜磁控滅射源，包括靶基 板、焊接或用壓環(huán)固定在靶基板正面的片狀靶材、 屏蔽環(huán)、磁鋼基板、安裝在磁鋼基板上的內(nèi)磁鋼和外磁鋼，所作的改進(jìn)是：磁鋼基板的直徑大于靶 材的半徑、小于靶材的直徑，磁鋼基板軸線偏離靶 基板軸線，磁鋼基板固定在一個正齒輪的側(cè)面上， 在鍍膜機(jī)機(jī)架上安裝與正齒輪嚙合的齒圈，在機(jī) 架上安裝位于正齒輪后側(cè)的電機(jī)，電機(jī)動力輸出 軸上固定拐柄，齒輪軸安裝在拐柄上。電機(jī)動力輸 出軸及齒圈與靶基板同軸線設(shè)置。本發(fā)明的積極 效果是：得到一個公轉(zhuǎn)兼自轉(zhuǎn)的環(huán)形磁場，用以 掃描到靶材的每一個位置，使靶材在更大的面積 上被均勻地滅射刻蝕。靶材的利用率高，鍍膜均勻。
1. 一種動磁場真空鍍膜磁控濺射源，包括正面在真空沉積腔中的靶基板、焊接或用壓 環(huán)固定在靶基板正面的片狀靶材、罩住靶基板圓周側(cè)面及靶基板正面靶材以外部分的屏蔽 環(huán)、設(shè)置在靶基板背面的磁鋼基板、安裝在磁鋼基板上的朝向靶基板一側(cè)的圓心位置的內(nèi) 磁鋼和圓周位置的環(huán)形外磁鋼或排列成環(huán)的組合外磁鋼，其特征是：磁鋼基板的直徑大于 靶材的半徑、小于靶材的直徑，磁鋼基板軸線偏離靶基板軸線，磁鋼基板固定在一個正齒輪 的側(cè)面上，在鍍膜機(jī)機(jī)架上安裝與正齒輪嚙合的齒圈，在機(jī)架上安裝位于正齒輪后側(cè)的電 機(jī)，電機(jī)動力輸出軸上固定拐柄，齒輪軸安裝在拐柄上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種動磁場真空鍍膜磁控濺射源，其特征是：電機(jī)動力輸出 軸及齒圈與靶基板同軸線設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種動磁場真空鍍膜磁控濺射源，其特征是：齒圈的分度圓 直徑減去內(nèi)磁鋼的分度圓直徑之差要大于或等于內(nèi)磁鋼的直徑。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種動磁場真空鍍膜磁控濺射源，其特征是：磁鋼基板軸線 偏離靶基板軸線的距離加磁鋼基板半徑之和等于或接近于靶材的半徑的長度。
