??
LS-Ⅳ寬溫低濃度自調(diào)鍍鉻添加劑適于在寬廣的溫度范圍、低鉻酐濃度、低電流密度條件下鍍鉻。與傳統(tǒng)工藝相比，可大幅度地降低鉻酐消耗(約50%)，陰極電流效率提高50%，大量節(jié)約電能(50%以上)，鍍液深鍍能力和分散能力有顯著提高，而且提高了產(chǎn)品質(zhì)量，減少了“三廢”污染并改善了勞動生產(chǎn)條件。該產(chǎn)品運(yùn)用了多種有效離子體系的復(fù)合自調(diào)作用，新型銃鉻添加劑的生產(chǎn)工藝和應(yīng)用工藝穩(wěn)定，克服了國內(nèi)已有產(chǎn)品腐蝕陰性極和工件、鍍液難于維護(hù)的嚴(yán)重缺點(diǎn)。與引進(jìn)的英國開寧公司和臺灣產(chǎn)添加劑比較，在其他性能相當(dāng)條件下，添加劑應(yīng)用的投入與效益比為1∶15。該技術(shù)可大幅度降低鉻酐含量和鉻霧的產(chǎn)生，減少六價(jià)鉻排放約40%，基本消除鉻霧，改善了生產(chǎn)和社會環(huán)境。
完成單位：中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)
郵政編碼：230026
成果類別：應(yīng)用技術(shù)
成果水平：國內(nèi)領(lǐng)先
限制使用：國內(nèi)
成果密級：非密
鑒定日期：19900207
應(yīng)用行業(yè)：金屬表面處理及熱處理加工
轉(zhuǎn)讓方式：技術(shù)咨詢
分類號：TQ153.11
