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電弧離子鍍技術(shù)是80年代發(fā)展起來的先進(jìn)鍍膜技術(shù)。在引進(jìn)的國外設(shè)備與國內(nèi)自行研制的電弧離子鍍設(shè)備中，均采用平面電弧源。其存在的主要問題是設(shè)備復(fù)雜、造價高、裝容量小。該成果在保留平面電弧源離子鍍系統(tǒng)電離率高、沉積速率高等優(yōu)點(diǎn)的同時，簡化了設(shè)備，提高了裝容量，解決了柱型靶表面電弧放電的穩(wěn)定性和控制弧斑運(yùn)動軌跡技術(shù)關(guān)鍵問題。還實(shí)現(xiàn)了在柱型靶表面穩(wěn)定的電弧放電，并通過控制弧斑的運(yùn)動速度細(xì)化了膜層組織，減少了溶滴，提高了鍍膜質(zhì)量。由于柱型電弧源離子鍍系統(tǒng)中的陰極靶放在真空室的中央，工件放在柱靶的四周，因而真空室的利用率大大提高，設(shè)備造價又可大幅度地降低。如用于氮化鈦超硬涂層的生產(chǎn)，可提高刀具的使用壽命三倍以上。
完成單位：南開大學(xué)
郵政編碼：300071
成果類別：應(yīng)用技術(shù)
成果水平：國內(nèi)領(lǐng)先
限制使用：國內(nèi)
成果密級：非密
鑒定日期：19920100
應(yīng)用行業(yè)：金屬表面處理及熱處理加工
鑒定部門：天津市科委
分類號：TG155.5
