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該設(shè)備可在金屬或非金屬的表面鍍制硬質(zhì)增壽臘、裝飾臘、合金膜或多層臘，可廣泛用于刀刃、模具、鐘表、首飾、燈具、建筑五金及裝飾用彩色鋼板、眼鏡架、電子產(chǎn)品、醫(yī)療器械、儀器儀表等領(lǐng)域。該設(shè)備在真空條件下采用物理氣相沉積技術(shù)，在基片上鍍制氮化鈦及其它薄膜。它將多弧離子鍍技術(shù)、柱形靶及磁控油射離子鍍技術(shù)有機結(jié)合在一起，可單獨使用或同時使用，制取含有連續(xù)過渡層的各種膜層。該設(shè)備制造簡單，使用方便，運行成本低無污染，經(jīng)濟效益高。其雙真空室可交替工作，能提高工效一倍，大大節(jié)省投資。該設(shè)備主要性能指標如下：鍍膜室極限真空度1.3×10〈’-3〉Pa;抽真空時間(從大氣抽至6.67×10〈’-3〉Pa)≤20min;壓升率1Pa/h;工作周期1h;弧電流60￣90A;弧電壓18￣21V;磁控油射靶功率10￣36kW。該設(shè)備已在國內(nèi)外出售幾十臺套，取得了良好的社會經(jīng)濟效益。
完成單位：中國航天工業(yè)總公司第五研究院五一一研究所天星公司 中國航天工業(yè)總公司第五研究院第五一一研究所
聯(lián)系電話：(010)68378136
郵政編碼：100029
成果類別：應(yīng)用技術(shù)
成果水平：國內(nèi)領(lǐng)先
限制使用：國內(nèi)
成果密級：非密
鑒定日期：19930921
應(yīng)用行業(yè)：電子器件制造
分類號：TN305.8
