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針對唐晉發(fā)、鄭權(quán)老師在<應(yīng)用薄膜光學(xué)>一書中介紹的采用低折射率材料做間隔層，用16個λ/4層完成紅外雙半波濾光片的設(shè)計方法制作的薄膜易發(fā)生斷裂，該文給出該膜系另一種設(shè)計計算方法，即采用高折射率材料做間隔層，用12個λ/4完成膜系設(shè)計。與前者相比，該方法節(jié)省了材料和時間。同時給出了鍍制該膜系的工藝要點，并對鍍膜過程中的初始真空度、蒸鍍溫度和2種材料的蒸發(fā)速率做了說明。指出在該工藝實施過程中，首先使用離子源對基底進行活化轟擊，然后在蒸鍍硫化鋅和鍺的過程中用離子源進行輔助蒸鍍，可得到非常牢固的膜層。
完成單位：中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所
聯(lián)系電話：(021)65449350
郵政編碼：200083
成果類別：應(yīng)用技術(shù)
成果水平：國內(nèi)領(lǐng)先
限制使用：國內(nèi)
成果密級：非密
鑒定日期：19991215
應(yīng)用行業(yè)：電子器件制造
轉(zhuǎn)讓方式：其他
分類號：TN214
