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離子鍍是真空鍍膜工藝的一項(xiàng)新發(fā)展。普通真空鍍膜(亦稱真空蒸鍍)時(shí)，工件夾固在真空罩內(nèi)，當(dāng)高溫蒸發(fā)源通電加熱后，促使待鍍材料——蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。由于溫升，蒸發(fā)料粒子獲得一定動(dòng)能，則沿著視線方向徐徐上升，最后附著于工件表面上堆積成膜。用這種工藝形成的鍍層，與零件表面既無牢固的化學(xué)結(jié)合，有無擴(kuò)散連接，附著性能很差，有時(shí)就像桌面上落的灰塵一樣，用手一摸也會(huì)擦掉。然而，離子鍍工藝則有所不同，雖然也是在真空罩內(nèi)進(jìn)行的，但這時(shí)鍍膜過程是以電荷傳遞的形式來實(shí)現(xiàn)的。也就是說，蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)的吸引下，以很高的速度注入到工件表面。相當(dāng)于一個(gè)從槍管中射出的高速?gòu)楊^，可以穿入靶體很深，在工件上形成一種附著牢固的擴(kuò)散鍍層。
離子鍍的作用過程如下:蒸發(fā)源接陽極，工件接陰極，當(dāng)通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于真空罩內(nèi)充有惰性氬氣，在放電電場(chǎng)作用下部分氬氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的氬離子受陰極負(fù)高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進(jìn)入輝光放電區(qū)并被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同氬離子一同沖向工件，當(dāng)拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時(shí)，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。這就是離子鍍的簡(jiǎn)單作用過程。
