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電鍍銅設備中槽液的管理

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-08-09??瀏覽次數(shù):643 ??關注:加關注
核心提示:槽液中的主成分每周可執(zhí)行2-3次之化學分析,并采取必要的添補作業(yè)以維持Cu++、SO4-、與CL-應有的管制范圍。至于有機添加劑的分析

槽液中的主成分每周可執(zhí)行2-3次之化學分析,并采取必要的添補作業(yè)以維持Cu++、SO4-、與CL-應有的管制范圍。至于有機添加劑的分析,早先一向以經(jīng)驗導向的Hull Cell試鍍片,作為管理與追查的工具。此種不夠科學的做法,80年代時即已逐漸被CVS法(Cyclic Voltametric Stripping循環(huán)電壓剝鍍分析法)所取代。現(xiàn)役之CVS自動分析儀器中,不但硬件十分精密,且更具備了由多項試驗項模擬的結果而變得更為科學,此等預先設置的精確軟件程序,對于上述三種有機助劑與氯離子,均可進行精確的分析與紀錄,使得酸性鍍銅的管理也將更上軌道。

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關鍵詞: 電鍍銅
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