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在高真空度的條件下，高純度的鍍層金屬(如鋁)在高溫下蒸發(fā)后會自由地飛散開并沉降在工件表面，形成鍍層。
真空電鍍原理：
一般而言，鍍膜在真空鍍膜機內(nèi)以真空度 1~5 x 10 -4 Torr程度進行 (1 Torr = 1 公厘水銀柱高的壓力，大氣壓為 760 Torr)。其鍍膜膜厚約為 0.1 ~ 0.2 微米。顏
如果鍍膜在特定厚度以下時(即太薄)，面油對底油將會產(chǎn)生侵蝕、引起化學(xué)變化(如表面霧化等)。如鍍膜過厚時，會產(chǎn)生白化的狀態(tài)。顏填料,助劑,樹脂,乳液,分散Dr<!--[if !supportFoot<!--[endif]-->l<!--[if !supportFootnotes]-->[1]<!--[endif]-->v#W?n8D<!--[if !supportFootnotes]-->[1]<!--[endif]-->G.e
關(guān)于鍍膜的形成，首先利用強大電流將鍍膜源 (鎢絲) 加熱，然后把掛在鎢絲上的鋁片或鋁線熔解。鋁材從而蒸發(fā)、飛散到各方面并附著于被鍍件上。熔解的鋁為鋁原子，以不定形或液體狀態(tài)存在并附著于被鍍件上，經(jīng)冷卻結(jié)晶后從而變?yōu)殇X薄膜。
因此設(shè)定鎢絲為定數(shù)時，由真空度至蒸發(fā)鋁的飛散方向、鎢絲的溫度，鎢絲到被鍍件的距離等;依其鍍膜條件，鍍膜的性能也除著改變而發(fā)生變化。
一如前述，鍍膜在10 –4 Torr左右下進行，如真空度過低時，其蒸發(fā)中的鋁遇到殘留的氣體或者碰著鎢絲被加熱時產(chǎn)生的氣體，發(fā)生沖突而冷卻，形成的鋁粒 (非常小的鋁粒子集合體) 會附著于被鍍膜件上。此時所形成的鍍膜因微細鋁粒中可能仍含有殘留氣體而令其失去光澤，也會大大降低鍍膜與底油的密著性。
如真空度高，而且鎢絲的溫度亦高時，蒸發(fā)鋁的運動能量也因此會提高，被鍍膜件表面所附著的會是純鋁 (并沒有殘留氣體)，而且密度非常高，鍍膜性能因此而得到提升 (包括密著性等)
B. 涂料及霧化：
依各種鍍膜條件形成不同的鍍膜。如前述，在現(xiàn)場作業(yè)最容易產(chǎn)生的問題是霧化現(xiàn)象。這種現(xiàn)象是有機高分子(涂膜)和金屬(鋁膜)的膨脹系數(shù)差異而發(fā)生。雖然可能由于涂料本質(zhì)所導(dǎo)致，但一般而言，如果使用涂料的方法正確，霧化現(xiàn)象應(yīng)該不會發(fā)生的。但是被鍍膜件的素材日新月異(包括再生料)，也可能會引起霧化。
容易引起霧化現(xiàn)象的原因有下述各點：
1、素材的殘留應(yīng)力(主要是突起部分)
2、 離型劑的影響UV,輻射,水性,粉末,溶劑#xH*S ~*k v
3、 可塑劑的影響
UV,輻射,水性,粉末,溶劑
4、 鍍膜過薄的場合51coat技術(shù)網(wǎng)6G[
5、 面油干燥條件不適當(dāng)涂料|油墨|樹脂|膠粘劑|配方b(nF-r2gG
6、 氧化重合型、空氣流通不充分等
7、 濕度太高時
涂料|油墨|樹脂|膠粘劑|配方<9> 稀釋劑含水量過高
