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滾鍍滾筒的轉(zhuǎn)速對(duì)電沉積有何影響?

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2009-11-05??瀏覽次數(shù):1076 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:滾鍍滾筒的轉(zhuǎn)速對(duì)電沉積有何影響?

滾筒的最佳轉(zhuǎn)速與鍍種、鍍筒直徑及表面光澤度要求等有關(guān)。選用滾筒轉(zhuǎn)速時(shí),首先考慮鍍種光澤度要求,其次考慮滾筒直徑。滾筒轉(zhuǎn)速慢,能提高電沉積速度(鍍鋅的滾筒轉(zhuǎn)速可取37rmin)。滾筒轉(zhuǎn)速快,能提高鍍層光澤(如鍍光亮銅、光亮鎳的滾筒轉(zhuǎn)速可取1012rmin),但電沉積速度下降,可用增加濃度、提高溫度和電流密度等方法來補(bǔ)救。滾筒直徑較大時(shí),應(yīng)取下限轉(zhuǎn)速。

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