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錫鈷合金電鍍?nèi)芤河心膸追N?

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2009-10-26??瀏覽次數(shù):463 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:錫鈷合金電鍍?nèi)芤河心膸追N?

     早期的錫鈷合金鍍液是氰化物.錫酸鹽體系,由于其只能獲得鈷含量(質(zhì)量分?jǐn)?shù))極低的合金層(含鉆035)而無法使用。以后陸續(xù)開發(fā)出焦磷酸鹽、錫酸鹽、HEDP和氟化物鍍液。這些鍍液的工藝規(guī)范列示于表27-4

    應(yīng)該注意的是,用作裝飾性的代鉻鍍層,鍍液中必須含有光亮劑才能得到光亮的外觀,否則只能形成無光澤的灰白色鍍層。

電鍍錫鈷合金的工藝規(guī)范

 

          方‘

    成分及操作條件

 

    1

 

    2

 

    3

 

    4

   

    5

 

    6

 

    7

 

    含量/(gL)

氯化亞錫(SnCl2·2H20)

  2050

  1550

 

 

 

 

 

焦磷酸亞錫(sn2 P207)

 

 

  6070

    15

 

 

 

錫酸鈉(Na2Sn03·3H20)

 

 

 

 

  60

  5070

 

  氯化鈷(CoCl2·6H20)

  2050

  1550

  6l0

    30

 

  1016

 37.5

乙酸鈷[Co(CH3COO)2]

 

 

 

 

    5

 

 

焦磷酸鉀(K4P207·3H20)

200300

 200300

 150200

    250

 

 

 

 HEDP(羥基乙叉磷二酸,                                  c2 H8 P207)

 

 

 

 

 

 

155180

 

 

酒石酸鉀鈉(KNaC4rt,06·

 

4H20)

 

 

 

    1520

 

 

 

    170

 

 

 

    7,--胺四乙酸二鈉

 

    (Na2CloHl4N208·2H20)

 

 

 

  10l5

 

 

 

 

    68

 

 

1檸檬酸銨[(NH,)C6O]

 

 

 

 

  20

 

 

、氯化銨(NH4C1) 

 

 

 

 

 

 

 

37.5

  L

氟化氫銨(NH,HF2)

 

 

 

 

 

 

82.5

 

聚乙烯亞胺(M>3000)

 

 

  1030

 

 

 

  氨水

 

  70mL

 

 

 

  乙烯基乙醇(C4HOH)

    1lO

 

 

 

 

 

 

11.3丙二酸

[CH2(COOH)2]

 

    24

    mLL

 

  甘氨酸

  10mLL

 

 

 

   

   

204    §

       

    、·.    (續(xù))!

   

 

 

    ‘‘          。方      ’;制

   

 

    成分及操作條件    +

    l

    2

    3

    4

    5

    6

  7i

 

    含量/(9L)    }j{|i

 

 1.2.4三氮唑(c2H3N3)

 

  0.6,1

 

 

 

 

  一逸清

 

  明膠

 

 

  0.10.2

 

 

 

  I

 

  十二烷基硫酸鈉(Nat12H25S04)

 

 

 

 

  0.02

 

  i

 

 pH   

    89

  8.5lO

  10,11

    10

  6.8

  12.513

  c{i

 

  溫度/℃

    55

  5060

  5055

    55

  45

  4060

  65’。駕

 

 

  電流密度t(Aid m2)

 

  0.3_l

   

  0.3l

 

    1.2

 

    0.52

 

  0.5

 

  0.5l

  l~3

 

 

    I

 

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