??
【標(biāo)準(zhǔn)號】JB/T 8946－1999
【標(biāo)準(zhǔn)簡介】
真空離子鍍膜設(shè)備 JB/T 8946－1999
Vacuum ion coating plant
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了真空離子鍍膜設(shè)備的技術(shù)要求，試驗方法，檢驗規(guī)則，標(biāo)志、包裝、運輸和貯存等。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于壓力在10-4~10-3 Pa范圍的真空離子鍍膜設(shè)備（以下簡稱設(shè)備），具體包括如下類型：多弧離子鍍、電弧放電型真空離子鍍、空心陰極離子鍍（HCD）、射頻離子鍍（RFIP）、直流放電二極型（DCIP）、多陰極型、活性反應(yīng)蒸發(fā)鍍（ARE）、增強型ARE、低壓等離子體離子鍍（LFPD）、電場蒸發(fā)離子鍍、感應(yīng)加熱離子鍍、簇團離子束鍍等。
Vacuum ion coating plant
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了真空離子鍍膜設(shè)備的技術(shù)要求，試驗方法，檢驗規(guī)則，標(biāo)志、包裝、運輸和貯存等。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于壓力在10-4~10-3 Pa范圍的真空離子鍍膜設(shè)備（以下簡稱設(shè)備），具體包括如下類型：多弧離子鍍、電弧放電型真空離子鍍、空心陰極離子鍍（HCD）、射頻離子鍍（RFIP）、直流放電二極型（DCIP）、多陰極型、活性反應(yīng)蒸發(fā)鍍（ARE）、增強型ARE、低壓等離子體離子鍍（LFPD）、電場蒸發(fā)離子鍍、感應(yīng)加熱離子鍍、簇團離子束鍍等。
