鋁的氧化膜是怎樣生成的?

    從硫酸溶液氧化時(shí)可以看到在陽極附近的溶液區(qū)域中，鋁離子的含量增加，同時(shí)有氧氣析出，有氧化膜形成，而陰極上析出氫氣，氧化膜的形成反映兩個(gè)步驟同時(shí)進(jìn)行。即氧化膜的電化學(xué)成膜過程和化學(xué)溶解過程，當(dāng)然，只有成膜速度大于膜的溶解速度，那么氧化膜的加厚生成才是可能的，由于鋁氧化膜的電阻很大，當(dāng)它的厚度達(dá)到一定限度時(shí)，電阻就妨礙了陽極反應(yīng)的繼續(xù)進(jìn)行，電流就通不過了，這時(shí)，成膜速度等于零而溶解過程并沒有停止，所以就會(huì)出現(xiàn)已經(jīng)形成的氧化膜厚度趨向減薄。

    陽極氧化過程的實(shí)質(zhì)是H⁺與OH^一的放電和接著進(jìn)行新生態(tài)氧對(duì)鋁的氧化，形成Al_zO₃。氧化開始時(shí)，陽極上很快地生成一層薄而細(xì)密的氧化膜(即緊貼金屬表面的無孔內(nèi)層)，電阻也大，在最初的幾秒鐘里就使電壓急劇升高，電壓升高導(dǎo)致氧化膜局部薄的地方“擊穿”。擊穿的地方膜的溶解加快，出現(xiàn)孔穴，并繼而延伸，為膜的進(jìn)一步增厚提供條件，而且以孔為中心形成一個(gè)個(gè)六角形組成了氧化膜的外層。