在石墨基體上脈沖電鍍TiB2鍍層

采用KF—KCl一K2TiF6-KBF4和LiF-KF—NaF—K2TiF6-KBF4熔鹽體系，利用直流和脈沖電源在石墨基體上制備了TiB2鍍層。采用金相顯微鏡觀察了鍍層的厚度，用X射線衍射分析了鍍層的組成，用掃描電鏡觀察了鍍層的表面形貌。實驗結(jié)果表明：在LiF-KF—NaF—K2TiF6-KBF4熔鹽體系，當(dāng)K2TiF6：KBF4為1：4(摩爾比)，脈沖電流幅度為0．45A·cm^-2，脈沖寬度為85ms，脈沖間隔為17ms時，得到的鍍層致密、無裂紋、與基體的結(jié)合力很好、有金屬光澤、TiB2的純度高。