怎樣測定鍍液的沉積速度？

    鍍層的沉積速度是指單位時間內(nèi)所鍍得的鍍層的厚度。在電鍍過程中，影響鍍層厚度的因素較多，因此，在描述鍍層的沉積速度時，要有一些限定條件，比如是采用的什么鍍液(工藝)；是在什么電流密度條件下電鍍和所用鍍液的電流效率如何等，這樣才可以使電鍍的速度有可比性。具體測量鍍層厚度時，就是在確定了這些因素后，取單位面積的試片經(jīng)前處理、干燥后稱重，然后在單位時間內(nèi)電鍍，再經(jīng)清洗后干燥、冷卻、稱重。將所得重量減去初始重量，即得所沉積的金屬的質(zhì)量。’再除以單位面積和所用時間，即可得單位時間的鍍層厚度。

    可以用相關(guān)公式驗證所測的沉積速度：